我在台北天氣晴
2011年6月12日 星期日
Intel 未來主要研究方向
3-D三柵極晶體管、III-V族復合物、光學互連、計算光刻、高K鍺、原材料合成、高密度內存、納米線
半導體制造技術的研究方向
目前的關注重點
互連方面亟待革新
多重選擇
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