2011年6月12日 星期日

Intel 未來主要研究方向


3-D三柵極晶體管、III-V族復合物、光學互連、計算光刻、高K鍺、原材料合成、高密度內存、納米線


半導體制造技術的研究方向

目前的關注重點

互連方面亟待革新

多重選擇

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